濺射中性粒子質(zhì)譜儀 參考價:面議
MAXIM 二次離子濺射中性粒子質(zhì)譜儀可分析二次陰、陽離子動態(tài)和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應用于SIMS和SNMS的光學采樣...二次離子質(zhì)譜儀 參考價:面議
二次離子質(zhì)譜儀適合做多層薄膜的深度分析,可以做元素成像和混合模式掃描,自動測量正、負和中性粒子。飛行時間二次離子質(zhì)譜儀 參考價:面議
Hiden TOF-qSIMS 飛行時間二次離子質(zhì)譜儀工作站設計用于多種材料的表面分析和深度剖析應用,包括聚合物,藥物,超導體,半導體,合金,光學和功能涂層以及...